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압저항센서

sensor handbook, 394page

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압저항센서

Piezoresistive Sensor · Silicon Diaphragm · Longitudinal · Transverse · π44 · Wheatstone Bridge

1. 실리콘 격막 위의 압저항체

원본 그림은 실리콘 격막 위에 압저항체 R1, R2를 서로 다른 방향으로 배치한 구조를 보여준다.

                Silicon Diaphragm

             ┌─────────────────┐
             │       R1        │
             │       │         │
             │       │         │
             │             ─R2 │
             │                 │
             └─────────────────┘

                     ↓ p
                  Pressure
    

R1과 R2는 격막의 서로 다른 위치와 방향에 배치된다.

압력이 격막에 작용하면 격막에 응력이 발생하고, 압저항체 R1과 R2의 저항이 변화한다.

2. 압력과 격막

원본 단면도에서는 압력 p가 실리콘 격막에 작용한다.

                  p
                  ↓

            R1          R2
             ────────────
           ┌──────────────┐
           │   Diaphragm  │
           └──────┬───────┘
                  │
             배기구 구멍
    

압력이 가해지면 격막이 변형되고, 위치와 방향에 따라 다른 응력이 발생한다.

3. 저항의 기본 관계

손필기에서는 저항의 기본식을 다음과 같이 기록한다.

R = ρ l / A
  • ρ : 비저항
  • l : 길이
  • A : 단면적

Stress가 가해지면 재료의 저항이 변화한다.

4. 압저항 효과

손필기에서는 응력에 의한 저항변화를 압저항계수와 응력의 관계로 기록한다.

ΔR / R = πl σl + πt σt
  • πl : Longitudinal 방향 압저항계수
  • πt : Transverse 방향 압저항계수
  • σl : Longitudinal 방향 Stress
  • σt : Transverse 방향 Stress

5. Longitudinal 방향

손필기의 l은 Longitudinal 방향을 의미한다.

l = Longitudinal

저항체의 길이방향으로 작용하는 응력과 그에 대응하는 압저항계수를 사용한다.

6. Transverse 방향

손필기의 t는 Transverse 방향을 의미한다.

t = Transverse

Longitudinal 방향에 수직인 응력성분과 이에 대응하는 압저항계수를 사용한다.

7. π44와 전단응력

손필기에서는 실리콘 압저항체에서 π44를 이용한 관계를 기록한다.

π44는 Shear와 연결하여 메모되어 있다.

π44 ↔ Shear

8. R1과 R2의 저항변화

R1과 R2는 서로 다른 방향에 배치되어 압력이 가해졌을 때 저항변화의 극성이 반대로 나타나는 형태로 기록되어 있다.

ΔR₁ / R₁ = – ΔR₂ / R₂

손필기의 세부식은 다음 형태로 읽힌다.

ΔR₁ / R₁ = – ΔR₂ / R₂ = 1/2 · π44 (σ1x – σ1y)
응력 첨자의 세부 표기는 손필기가 흐려 원본에서 읽히는 형태만 보존하였다. 외부 압저항 이론으로 첨자를 수정하지 않았다.

9. 격막에서의 R1 · R2 배치

두 번째 손그림에서는 격막이 압력에 의해 아래쪽으로 변형되는 모습을 그린다.

             R1             R2
             ──             ──
        ─────────────────────────
           \                /
            \              /
             \____________/
                압력 변형
    

R1과 R2의 배치방향이 다르기 때문에 같은 격막 변형에서도 서로 다른 응력성분을 받는다.

10. 인장 · 압축 응력

손필기 그림에서는 격막이 휘어지면서 위치에 따라 인장과 압축이 발생하는 모습을 나타낸다.

Pressure → Diaphragm Bending → Tensile / Compressive Stress → ΔR
압력을 직접 전기신호로 측정하는 것이 아니라, 압력 → 격막 변형 → 응력 → 저항변화의 순서로 변환한다.

11. Wheatstone Bridge

원본에서는 R1, R2를 Half Bridge에 연결하는 방향으로 기록한다.

             R1           R
          ┌─/\/\/─┬─/\/\/─┐
          │       │       │
          │      Vout     │
          │       │       │
          └─/\/\/─┴─/\/\/─┘
             R2           R
    

R1과 R2의 저항변화 방향이 반대이므로 Bridge 출력에서 변화가 합쳐지는 구조이다.

12. Bridge 출력

손필기에는 Half Bridge 출력관계를 다음 형태로 기록한다.

Vout = 1/4 · E · πeff (σ1y – σ1x)
  • E : Bridge 인가전압으로 표시
  • πeff : 유효 압저항계수
  • σ : 격막의 응력성분
식의 응력 첨자와 π 표기는 손필기 판독 범위까지만 반영하였다.

13. 압저항 압력센서의 변환 과정

               Pressure p
                    │
                    ▼
              Silicon Diaphragm
                    │
                    ▼
               Diaphragm 변형
                    │
                    ▼
            Tensile / Compression
                  Stress
                    │
                    ▼
             Piezoresistive
              ΔR₁, ΔR₂
                    │
                    ▼
            Wheatstone Bridge
                    │
                    ▼
                 Vout
    

14. 네 번째 이미지의 내용

네 번째 손필기 이미지는 앞의 압저항 효과와 달리 압전효과에 관한 내용이다.

압력은 물체에 응력을 만들고, 압전재료에서는 힘에 의해 전하가 발생하는 관계를 기록한다.

Q [C] = d₁₁ [C/N] · Fx [N]

d는 압전계수로 기록되어 있다.

15. 압전센서의 전압 관계

발생한 전하 Q와 Sensor의 Capacitance C를 이용하여 출력전압을 기록한다.

V = Q / C
V = d₁₁ Fx / C

Capacitance는 평행판 형태로 다음과 같이 기록되어 있다.

C = (a / l) k ε₀

따라서 손필기에는 다음 관계까지 전개되어 있다.

V = d₁₁ Fx · l / (a k ε₀)

16. 압저항과 압전 내용 구분

구분 원본 이미지 내용
압저항 Pressure → Diaphragm Stress → Resistance Change → Bridge Voltage
기본식 R = ρl/A
압저항계수 πl, πt, π44
R1 · R2 격막 위 서로 다른 위치·방향에 배치
Bridge 반대 방향의 ΔR을 출력전압으로 변환
압전 Force → Charge Q → Voltage V
압전 관계 Q=dF, V=Q/C
이 HTML은 페이지 본문과 외부 Sensor Handbook 내용을 사용하지 않고, 페이지에 포함된 일반 이미지 4장만 OCR/시각 판독하여 작성했다. 페이지에 첨부된 ‘압저항센서.pdf’는 3페이지의 별도 작성 문서이며 NeoStudio PDF가 아니므로 현재 변환 기준에 따라 제외하였다. 일반 이미지 1장은 실리콘 격막 위 R1, R2 압저항체의 위치를 보여준다. 일반 이미지 2~3장은 Longitudinal / Transverse 방향, π44, 격막의 인장·압축 응력, R1/R2의 저항변화, Half Bridge 출력을 기록한다. 일반 이미지 4장은 압저항 효과가 아니라 Q=dF, V=Q/C를 사용하는 압전효과 내용이다. 따라서 압저항센서 원리와 섞지 않고 별도 항목으로 구분하였다. 손필기 수식의 일부 응력 첨자와 계수 표기는 명확하게 읽히는 범위만 반영하고 외부 이론으로 임의 수정하지 않았다.
Piezoresistive Sensor, Silicon Diaphragm, Pressure Sensor, Piezoresistive Effect, Longitudinal, Transverse, Piezoresistive Coefficient, π44, Stress, Tensile Stress, Compressive Stress, Wheatstone Bridge, Half Bridge, Piezoelectric Effect
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